フォトレジスト

ふぉとれじすと / photoresist

光により耐食性のある膜を形成する感光材料で，一般には特定の機能をもつ感光性樹脂のこと。フォトレジスト皮膜は光の照射を受けると化学反応を起こして，露光した部分の樹脂が未露光部分と異なった性質になる。露光により現像液に溶解しやすくなるレジストをポジ型，溶解しにくくなるレジストをネガ型という。ポジ型レジストとしてはo-ナフトキノンジアジド化合物とノボラック樹脂との混合物，ネガ型レジストとしては重クロム酸塩/ポリビニルアルコール，ポリけい皮酸ビニル，多官能性アクリレート/合成高分子/光重合開始剤などがある。フォトレジストにはフィルム状のものと液状のものがあり，前者をドライフィルム，後者を液状レジストという。印刷版，プリント基板，IC・LSI（集積回路）などの電子部品の製作のためにつかわれている。