フォトマスク

ふぉとますく / photomask

シリコンウエハー上に微細な回路パターンを形成するときに使用する，大きさ10～18cm角のガラス板の表面に，髪の毛の数十分の一の，ごく細かいICやLSIの回路のパターンが規則正しく多数写し込まれているもの。これは電子工業のIC・LSI（集積回路）の製造工程において拡散・腐食といった工程に用いられる。フォトマスクには高解像力写真乾板によってパターンをつくったエマルションマスクと，ガラス表面のクロム薄膜をエッチングすることによってパターンをつくるクロムマスクがある。実用的には微細パターンが形成でき，強度が大きいクロムマスクがほとんど用いられる（用い）ている。パターンは電子ビーム露光装置をもちいて電子ビームで描くことが一般的である。また，フォトマスクの製造はゴミのないクリーンルームでおこなわれる。