真空蒸着

しんくうじょうちゃく / vapor deposition

乾式プロセスとしてもっとも簡単な成膜方法の一つ。真空中で加熱によって材料を気化させ，被覆したい物体表面にコートする技術。加熱には抵抗加熱，電子線加熱，高周波あるいはレーザ加熱がある。蒸着材料には金属，無機酸化物，有機物など幅広く用いられる。真空蒸着は乾式でクリーン，超薄膜が可能，高速成膜が可能などの利点があるが，耐摩耗性・耐蝕性が低い。加工した製品ではむらになるなどの短所もある。